在風(fēng)速均勻上裝有風(fēng)壓傳感器，傳感器將風(fēng)速的變化反應(yīng)出，再根據(jù)基底的尺寸將風(fēng)量計(jì)算出來(lái)。風(fēng)量罩的顯示采用PDA，大屏幕液晶屏顯示直觀(guān)，直接可以得到風(fēng)速風(fēng)溫和風(fēng)量的數(shù)據(jù)，可以設(shè)置記錄時(shí)間間隔進(jìn)行連續(xù)的參數(shù)記錄，以便對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。測(cè)量和記錄的數(shù)據(jù)被記錄在存儲(chǔ)卡上,不會(huì)丟失,可以通過(guò)計(jì)算機(jī)的串口將數(shù)據(jù)傳遞到PC機(jī)上以及做進(jìn)一步的應(yīng)用。

無(wú)塵車(chē)間風(fēng)量調(diào)試

這個(gè)調(diào)試主要是根據(jù)設(shè)計(jì)施工圖紙來(lái)計(jì)算的，可以計(jì)算出無(wú)塵車(chē)間建設(shè)時(shí)的設(shè)計(jì)風(fēng)量。對(duì)新建無(wú)塵車(chē)間潔凈度進(jìn)行測(cè)試時(shí)，主要分為以下三種狀態(tài)：空態(tài)條件、靜態(tài)條件、動(dòng)態(tài)條件。建設(shè)完無(wú)塵車(chē)間成以后，企業(yè)可以從這三個(gè)條件下分別對(duì)無(wú)塵車(chē)間的潔凈度進(jìn)行測(cè)試，重點(diǎn)關(guān)注每種狀態(tài)下的潔凈度是否達(dá)到企業(yè)所要求的標(biāo)準(zhǔn)。

對(duì)于無(wú)塵車(chē)間的壓差要求，主要是避免外部的污染物進(jìn)入到潔凈室而設(shè)置的。在設(shè)計(jì)的時(shí)候，無(wú)塵車(chē)間內(nèi)部的壓力要高于外部的壓力才能夠避免污染物進(jìn)入到無(wú)塵車(chē)間，因此對(duì)于壓差測(cè)試十分的重要。

特別提醒的是：當(dāng)各項(xiàng)測(cè)試都達(dá)標(biāo)后，每隔一段時(shí)間就要對(duì)無(wú)塵車(chē)間的各項(xiàng)指標(biāo)進(jìn)行重新的測(cè)試與調(diào)試，要保證中建南方無(wú)塵車(chē)間各項(xiàng)數(shù)據(jù)都符合什業(yè)的相關(guān)生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)，企業(yè)才能保證生產(chǎn)的性。

其實(shí)也不必?fù)?dān)心，正規(guī)的無(wú)塵車(chē)間設(shè)計(jì)公司考慮的肯定更周全，另外您還可以通過(guò)對(duì)無(wú)塵車(chē)間進(jìn)行檢測(cè)，評(píng)估是否達(dá)標(biāo)。

我們進(jìn)行無(wú)塵車(chē)間氣流流型(單向流)的檢測(cè),明確無(wú)塵車(chē)間內(nèi)的設(shè)備或設(shè)施對(duì)氣流的影響,選擇或改善氣流流型使之產(chǎn)生最小的湍流(渦流)，增加無(wú)塵車(chē)間的自?xún)裟芰蚧謴?fù)率，縮短自?xún)魰r(shí)間。在紊流潔凈室中，風(fēng)的輸送和混合都是紊流方式進(jìn)行的。為確保污染物被清楚，無(wú)塵車(chē)間的各個(gè)部分必須均實(shí)現(xiàn)良好的空氣混合。

氣流流形的檢測(cè)應(yīng)按以下步驟進(jìn)行：

1：布置測(cè)點(diǎn)：1)垂直單向流無(wú)塵車(chē)間選擇縱、橫剖面各一個(gè)，以及距地面高度0.8m、1.5m的水平面各一個(gè);水平單向流無(wú)塵車(chē)間選擇縱剖面和工作區(qū)高度水平面各一個(gè)，以及距送、回風(fēng)墻面0.5和房間中心處等3個(gè)橫剖面，所有面上的測(cè)點(diǎn)間距均為0.2m~1m；2)亂流無(wú)塵車(chē)間選擇通過(guò)代表性送風(fēng)口中心的縱、橫剖面和工作區(qū)高度的水平面各一個(gè)，剖面上的測(cè)點(diǎn)間距為0.2m~0.5m，水平面上測(cè)點(diǎn)間距為0.5m~1m。兩個(gè)風(fēng)口之間的中線(xiàn)上應(yīng)有測(cè)點(diǎn)。

2：測(cè)定方法：用發(fā)煙器或懸掛單絲線(xiàn)的方法逐點(diǎn)觀(guān)察和記錄氣流流向，并可用量角器量出角度，發(fā)煙源可用超聲波霧化(0.5um~50um水霧)的去離子(DI)水、噴射方法生成的乙醇或二醇、固態(tài)二氧化碳(干冰)等，在高強(qiáng)度光源下示蹤。在確保對(duì)人和物無(wú)傷害時(shí)可以四氯化鈦(TiCl4)作示蹤粒子。